光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。

进口光刻胶清关单证一般需要：

1.运单

2.INVOICE

3.装箱单

4.企业符合性声明

5.是否添加稳定剂声明

6.MSDS中文翻译件

7.中文危险品标签（中文GHS标签）

MSDS很重要，要准确，因为中文危险品标签也是按照中文MSDS上信息做的。

进口光刻胶清关流程操作介绍：

1、进口商与外商签订进口合同

2、外商准备国外进口化工原料相关单据，并在国外贴标签，发货到国内港口

4、进口化工原料到港，换单，提货

5、报检，报关

6、海关审价，出税单，缴税

8、货物放行，安排国内物流送货到目的地

在光刻胶工艺过程中，涂层曝光、显影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，该涂层材料为正性光刻胶。如果曝光部分被保留下来，而未曝光被溶解，该涂层材料为负性光刻胶。按曝光光源和辐射源的不同，又分为紫外光刻胶（包括紫外正、负性光刻胶）、深紫外光刻胶、X-射线胶、电子束胶、离子束胶等。